Fa'amaufa'ailoga Fa'atuatuaina mo Faiga Fa'atautaia o le Vevela o le EV Battery

I le siosiomaga maualuga o le gaosiga o semiconductor, o le lelei o vaega o le fa'amaufa'ailoga e le na'o se popolega fa'amekanika—ae o se mea taua e fuafua ai le fua ma le mautu o le faagasologa. I totonu o potu etch plasma ma nofoaga e fa'amamā ai nofoa susu, o fa'amaufa'ailoga elastomeric e feagai ma se tu'ufa'atasiga mata'utia o kemisi tali atu, plasma malosi maualuga, ma le taamilosaga vevela tele. O lenei ta'iala e tu'uina atu ai se fa'avae atoatoa mo le filifilia o fofo fa'amaufa'ailoga perfluoroelastomer (FFKM) e leai se tafega ma le maualalo tele o le gassing i lalo o nei tulaga faigata.

1. O le Siosiomaga o le Fa'a'ofuofuina o Semiconductor: O se Vaega e Toatolu o Mea e Sili Ona Mamafa

O faiga o le vaneina, pe mago (plasma) pe susu (kemikolo), e iai ni luʻitau tulaga ese e tuleia ai mea masani e sili atu i lo latou tapulaʻa.

Ala Fa'a'ele'ele Fa'amalosi: O mea e fa'a'ele'ele ai e pei o le hydrofluoric acid (HF), nitric acid, kasa e fa'avae i le chlorine (Cl₂, BCl₃), ma le fluorine-based plasmas (CF₄, SF₆) e osofa'ia malosi ai filifili o polymer. O fluoroelastomers masani (FKM) e mafai ona mafatia i le fulafula tele, māvaevae, po'o le vave fa'aleagaina o vaila'au i nei siosiomaga.

Fa'aalia i le Plasma Malosi Maualuga: I meafaigaluega eli mago, e fa'aputuina fa'amaufa'ailoga e ituaiga ionized ma le UV radiation. O lenei mea e mafua ai le malepelepe o luga, micro-cracking, ma le gaosia o le particulate contamination, lea e a'afia sa'o ai le fa'aletonu o le wafer.

Mana'oga Faigata mo le Vacuum ma le Mama: O faiga fa'aonaponei o le fab e fa'agaoioia i tulaga maualuga o le vacuum (≤10⁻⁶ mbar). So'o se kasa e alu ese mai fa'amaufa'ailoga—o le fa'asa'olotoina o kasa ua mitiia pe o mea e maua mai i le pala—e mafai ona fa'aleagaina ai le ea o le potu, fa'aleagaina ai le plasma impedance, ma fa'aofi mai ai mea leaga e pei o le carbonaceous.

2. Aisea e avea ai le FFKM ma Filifiliga e Lē Mafai ona ʻAlofia mo le Vāeina

O Perfluoroelastomers o loʻo faʻatusalia ai le tumutumuga o le faʻatinoga o le faʻamaufaʻailogaina mo nei faʻaoga. E le pei o le FKM, lea e taofia ai sina haitorosene i lona ivi tua, o le FFKM o loʻo i ai se fausaga molecular ua atoatoa ona fluorinated. O lenei eseesega autu e maua ai le inertness faʻakemikolo e toetoe lava a lautele, e pei o le PTFE, ae o loʻo i ai le elasticity taua e manaʻomia mo le faʻamaufaʻailogaina faʻatuatuaina.

O le gafatia o le meafaitino e tatalia ai le vevela faifai pea e oo atu i le 300–325°C​ ma le siitia puupuu i ni taimi maualuga atu, ua matua fetaui lelei ai mo meafaigaluega eli, lea e masani ona faia i ai ni taamilosaga malolosi o le taoina i totonu lava o le fale e aveese ai mea leaga.

3. Ausia le Leai o le Liki i Siosiomaga Malosi ma le Plasma

O le tafega i meafaigaluega semiconductor e lē o se tafega vaaia i taimi uma; e mafai ona aliaʻe mai o se faʻagasologa o le tafega poʻo le faʻaleagaina faʻatasi. O loʻo faʻatalanoaina e le FFKM lenei mea e ala i meatotino totino ma le mamanu.

Le Mafai ona Fa'agaoioia Fa'akemikolo: O fusi o le carbon-fluorine i le FFKM o nisi ia o fusi sili ona malolosi i le kemisi fa'aola. O lenei mautu masani e taofia ai le mea mai le tali atu i ni 'asita malolosi ma ni mea fa'aola, ma fa'atumauina ai le fausaga o le fa'amaufa'ailoga ma le malosi o le fa'apipi'iina i le faitau afe o itula.

Tete'e i le Plasma: O vasega FFKM maualuga le fa'atinoga ua fa'apitoa ona fa'atulagaina e tete'e atu ai i le soloia i lalo o le okesene ma le fluorine-based plasmas. O lenei uiga "e le pipii" e fa'aitiitia ai le fausiaina o ni fa'aputuga eletise i luga o puipui o le potu ma puipuia ai le fa'amaufa'ailoga mai le avea ma puna o le fe'avea'i o le fa'agasologa.

Mausali o le Vevela: O faiga o le vaneina e masani ona aofia ai le vave o le taamilosaga o le vevela. E tausia e le FFKM se seti maualalo o le fa'apipi'iina (e masani lava <20–30% pe a uma ona fa'aalia mo se taimi umi), ma ia mautinoa o lo'o fa'aauau pea ona fa'aogaina e le fa'amaufa'ailoga le malosi talafeagai i le gland tusa lava pe a uma ona fa'aauau pea taamilosaga o le vevela, ma puipuia ai le tafe i le vevela maualuga.

4. Le Taua o le Low Outgassing ma le Auala e Faatino ai e le FFKM

I siosiomaga e tele ai le vacuum, o le outgassing o se faiga autū lea o le faaletonu e faʻaleagaina ai le mama o le faagasologa. E mafai e meaola ua outgassed ona toe faʻaputu i luga o le wafer surfaces, ma mafua ai le faʻalavelave pe suia ai foʻi fua taua.

Mamā o Meafaitino: O vaila'au FFKM o le vasega Semiconductor e gaosia i le maualalo tele o le aofa'i o ion u'amea (e masani lava <10 ppm) ma e gaosia i totonu o siosiomaga mama e fa'aitiitia ai le aofa'i o meaola fe'avea'i mai le amataga.

Agavaa e Tao ai: O se tasi o tulaga lelei taua o le FFKM o lona gafatia e tatalia ai faiga e tao ai i le vevela maualuga (e pei o le 150–200°C i lalo o le vacuum) a'o le'i amataina le faiga. O lenei laasaga e aveese ai le susu ma toega o le mamafa o le molecular, ma ausia ai le gau o le mamafa atoa (TML) ma aoina ai mea e mafai ona fa'aputuina (CVCM) e mana'omia mo faiga ma'ale'ale.

Tete'e i le Ulufia o le Suavai: O le fausaga mafiafia ma atoatoa ona fa'a-fluorinated e fai ma pa puipui malosi e fa'asaga i le ulufia o le kasa, e puipuia ai kasa o le ea mai le tafe atu i totonu o le potu ma kasa o le faagasologa mai le tafe atu i fafo.

5. Tulaga Autū mo le Filifiliga e Sili Atu Nai lo le Vasega o Meafaitino

E lē tutusa uma le fausiaina o fa'amaufa'ailoga FFKM. Pe a fa'amaoti mai fa'amaufa'ailoga mo fa'aoga eliina, e tatau i inisinia ona mafaufau i ni nai mea taua.

6. Fa'aletonu Masani ma Faiga Sili

'Alo'ese mai le Fa'aosoina i Fafo: I fa'aoga e maualuga le mamafa, e fautuaina le fa'aogaina o masini e tete'e atu i le fa'aosoina i fafo (e pei o mama fa'aola PTFE) e puipuia ai le fa'amalosia o le elastomer i totonu o avanoa, lea e mafai ona o'o atu ai i le fa'aletonu o le fa'amaufa'ailoga ma le malepelepe o vaega.

Taulimaina ma le Fa'apipi'iina: E ui i lo latou malolosi, e faigofie ona gaui ma tipiina fa'amaufa'ailoga FFKM i le taimi o le fa'apipi'iina pe a le taulimaina lelei. O le fa'aaogaina o meafaigaluega fa'apitoa mo le fa'apipi'iina ma le fa'amautinoaina o pito o le gland e fa'ata'amilomilo (ae le o le ma'ai) e taua tele i le fa'asaoina o le tumau o le fa'amaufa'ailoga.

Pulega o le Taamilosaga o le Olaga: O le fa'atulagaina vave o le sui e fa'atatau i le fa'aputuina o itula e fa'aalia ai le plasma (nai lo le fa'atali mo se pu) o se faiga sili lea e 'alofia ai le taimi e le'i fuafuaina e fa'agata ai meafaigaluega ma otaota o le wafer.

7. Agaifanua o le Lumanai: O le Uunaiga mo le Mama Maualuga Atu

A'o fa'agasolo le fa'asologa o semiconductor nodes i le 2nm ma tua atu, ua latalata atu le onosa'i mo le fa'aleagaina. O lo'o agai atu le alamanuia i fa'atulagaga FFKM "tupulaga fou" ma tulaga maualalo ifo o mea leaga ionic ma tufatufaina atu o le mamafa molecular e fa'atatau tonu i ai e taofia atili ai le fa'aaogaina o gas i lalo o tulaga ogaoga o le UV (EUV) lithography ma le atomic layer etch (ALE).

Faaiuga

O le filifilia o le fa'amaufa'ailoga FFKM sa'o mo se faiga e fa'a'ofu ai o se fa'afitauli tele e mafai ona fa'aleleia atili ai. O le sini e le na'o le filifilia o se mea e tete'e atu i vaila'au, ae ia filifilia se fa'aputuga ma se mamanu e fa'afetaui lelei ai vaega taua o le osofa'iga fa'akemikolo, fa'alavelave fa'avevela, ma le mama o le masini e fa'amama ai le ea. I le fa'amuamuaina o vasega e fa'aleleia atili ai le plasma, tausisia tulafono fa'atonutonu o le mamanu o le gland, ma le fa'atinoina o tulafono fa'atonutonu malolosi, e mafai ai e le au gaosi meafaigaluega ma inisinia o masini ona ausia le fa'atinoga e leai se tafega, maualalo le gassing e mana'omia mo le gaosiga o semiconductor maualuga.

Fa'asinomaga & Tulaga Fa'atonuina o Alamanuia:

ASTM D1418 (Faiga Fa'avasega Fa'atonu mo Mea Pa'u)

SEMI F57-0223 (Fa'amatalaga mo Faiga Fa'agasologa, Meafaitino Semiconductor)

ASTM E595 (Metotia Fa'ata'ita'i Masani mo le Pa'ū o le Mama Atoa ma Mea Fa'aputu Fa'aputu Volatile ua Aoina mai le Fa'aaogaina o Gas i se Siosiomaga Vacuum)